天津兴发腾飞钢铁贸易有限公司

近年来CVD技术已经取得了重要的技术进展，真空镀膜机尤其是MTCVD 技术的发展，离子加强化学气相沉积（PECVD）制膜设备，使得温度低于200℃的情况下沉积极端光滑的无定形类金刚石薄膜成为了可能，ADLC 薄膜具有极低的摩擦系数、非电导性并且具有化学惰性，主要的应用领域包括发动机部件和机械零件；由北京有色金属研究院开发的具有自主知识产权，利用射频等离子体增强CVD技术制备磷化硼硬质薄膜，该薄膜成分均匀、应力小、与工件的附着力良好，具有硬度高、机械强度高及红外光学性能优良等特点。然而，CVD技术普遍存在着不易工业化放大的难题。真空镀技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。真空设备虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。镀膜主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶—凝胶法等。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色的玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是目前生产和使用最多的产品之一。镀膜机：已被广泛应用于塑料、工艺礼品、包装、光学、电子、玩具、建材、五金、钟表、饰品、真空设备汽车等行业，镀膜机营销范围遍及全国。我们在操作流程上，从采购原料、设备制造、经营管理、技术员的现场安装调试到售后服务形成了一条有序的、完善的质量管理体系。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。www.bite-china.com